光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統(tǒng) PR-PD3
外形小巧、運營成本低、應(yīng)用范圍廣
概要
HORIBA的PD系列產(chǎn)品運轉(zhuǎn)效率高，具有長期穩(wěn)定性，受到眾多半導(dǎo)體制造工廠的高度評價。繼承了各個結(jié)構(gòu)簡單、長期穩(wěn)定運轉(zhuǎn)的搬運系統(tǒng)，高通過量、可靠性高的光學(xué)系統(tǒng)，以及具有防誤測功能等高性能設(shè)備并巧妙組合成一個整體的產(chǎn)品就是PR-PD3。和以往的機型(PR-PD2)相比，它的外形尺寸小了約1/2，追求低運營成本。檢測靈敏度達到0.5µm，具有廣泛通用性。誕生了可以用來滿足光掩模(reticle/mask)上異物檢測這一廣泛需求的簡便裝置。

特點
●和以往機型相比，設(shè)計小了1/2左右。
和PR-PD2相比較，底面面積小了1/2，實現(xiàn)了小巧化。由于占地面積大幅變小，所以即使添加操作裝置(可選件)，也可以自由地進行布局。

●實現(xiàn)了低運營成本。
采用激光中具有超群經(jīng)濟性的氦氖激光，同時，采用了結(jié)構(gòu)簡單的載物臺搬運系統(tǒng)等，大幅度地降低了維護運營成本。

●有效的防誤測措施。
搭載有粗圖案用的偏振差動和細微圖案用的低通差動這二個功能。通過同時使用這二種方法，可以有效地防止OPC等具有兩種特性的圖案誤檢測。 光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統(tǒng)
PR-PD3


規(guī)格 檢測對象
有(無)表膜光掩模(reticle/mask)上的微粒子
測量原理
激光散射方式
可次粒徑
約7分鐘/2個面(在5英寸Reticle) 2個面檢測(5英寸)從開始檢測到顯示數(shù)據(jù)約為7分鐘
※還可配有玻璃/表膜專用高速模式(約4分鐘/2個面)
靈敏度
圖案(Pattern)面：0.5µm、玻璃(Glass)面：5.0µm、表膜面(Pellicle)：10.0µm(※PSL相當)
光掩模盒 (請在訂貨時進行指定)
制曝光裝置盒(5、6英寸用)　 (標準配置：對應(yīng)一種尺寸的Reticle)
※如需多盒處理，請另行協(xié)商。
測量結(jié)果
對應(yīng)數(shù)據(jù)顯示于平面顯示器
外觀尺寸
約900(W)×1350(D)×1590(H) mm
※上述是設(shè)定標準尺寸。不同的分類器規(guī)格，尺寸大小有時也會不同


設(shè)備 安裝地點
從等級100以上的潔凈室或凈化臺
溫度
23±1℃
電源
AC100¿230V，7.5¿15A，50/60Hz
真空源
壓力差8.0x104Pa以上、流量50L/min




外形尺寸圖　(單位：mm)